事業案内

次世代の窒化チタニュウム処理
ネクストジェネレーションPVD ダイワ NEW TiN

15年間の研究開発と最先端のプラズマ工学から誕生した次世代のPVDTiN処理技術

均一な高密度真空プラズマの映像
均一な高密度真空プラズマの映像

従来のDCプラズマやRFプラズマなど単一のプラズマによるプロセスにおけるプラズマ密度の低さや、プラズマの不均一性をサイクロトロン共鳴技術、重畳技術、磁界制御技術の開発により、均一で高密度なプラズマを発生、制御することによって、次世代のPVDTiN処理技術が誕生致しました。
日々高度化するお客様各位のニーズに、最先端のプラズマ工学、イオン工学といったナノテクノロジーの追求と開発でお応えし、高価な金型などの寿命を数倍から数10倍に伸ばすことによりまして、コストダウンと品質の向上に貢献いたします。



母材NAK55
硬度Hv400(HRC40)

黄金色で硬度はHv2400を有し鋼の3倍〜6倍で超硬合金の2倍の硬さです
・耐磨耗性、耐蝕性に優れています
・Ra27nm(ナノメートル)と平滑性に優れており鏡面金型などに適しております

用語説明

TiN(窒化チタン)

チタンと窒素との反応により生成したチタンの窒化物セラミクス(チタニュウムナイトライド)の化学記号で、黄金色を呈しておりマイクロビッカース硬度(Hv2000〜2400)と高硬度で熱処理された鋼(Hv700〜800)の3倍、超硬合金(Hv1000〜1200)の2倍の硬度を有する。耐磨耗性や耐蝕性の高さから主に工具や金型、機械部品などの保護膜として使用されます。

PVD

Physical Vapour Deposition(フィジカル ベイパー デポジション)の略称で気相堆積法ともいい、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングなどの物理蒸着法の総称です。

プラズマ

イオン、電子、ラジカルなどで満たされた電離気体を指しますがここでは、真空プラズマつまり、オーロラのような大気圧未満の非平衡プラズマを対象とします。

プラズマプロセス

ナノテクノロジーの最もポピュラーな手法で物質をプラズマ状態に変化させ目的に応じた物質や効果を得ることを指します。
物質はエネルギーを得ることにより固体→液体→気体→プラズマと変化しますがプラズマプロセスを用いることにより固体から液体や気体を経ずに直接プラズマを発生することも出来ます。

電子サイクロトロン共鳴

Electoron Cyclotron Resonance(エレクトロン サイクロトロン レゾナンス)プラズマの振動を磁界中で高周波電界と共鳴させることにより高密度プラズマを発生させる技術、発生する高密度プラズマをECRプラズマとも言います。

DCプラズマ

直流電界により発生したプラズマ

RFプラズマ

Radio Frequency (ラジオ フレクエンシー:ラジオ周波数)13.56MHz等の高周波電界により発生したプラズマ

重畳技術

直流と高周波などの異なった2つ以上の電界を重ね合わせることにより均一で高密度なプラズマを発生し制御する技術。

Hv硬度

マイクロビッカース硬度とも言い、地球上で最も硬い物質であるダイヤモンドの固さを10000とした場合の硬さで硬質物質の硬さを比較するための基準、ダイヤモンドでできた正4角錐の押し込みみ深さを測定しその値から求めることが出来ます。

非平衡プラズマ

オーロラのように真空状態で発生するプラズマを指します。非平衡プラズマでは、気体温度Tgと電子温度TeがTg<Teの関係にありプラズマの温度は数百℃でありながら電子温度は数万℃に達するため常圧では1000℃以上の温度でしか起こらないようなTiとNなどの反応が、非平衡プラズマ中では数百℃程度でも起こります。
プラズマプロセスはこのような特性を利用し、反応温度を低温化できるためTiNも400℃以下で成膜できるのです。

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